美国专利商标局一员工 被大陆限制离境

美媒称，美国专利及商标局一名员工，因涉嫌危害国家安全的行为，被中国大陆政府限制离境。

《华盛顿邮报》引述知情人士指出，被禁止离境的是一名美籍华裔男子，4月入境中国大陆探亲，先后到过成都及北京。报导中说，他没有在签证申请中交代自己为美国联邦政府工作，在成都被中国当局拘留。另有报道指有关男子曾在美国陆军服役。

报导引述美国驻华大使馆发言人表示，密切关注个案，已向中国大陆当局提出对事件影响双边关系的担忧，敦促中方立即允许受影响的美国公民回国。