荷兰曝光机巨头艾司摩尔（ASML）执行长福克（Christophe Fouquet）近日警告称，收紧曝光机对大陆市场的出口管制，反而将加速大陆自主研发替代设备的步伐。他形容，这是「存亡问题」。
福克20日参加在比利时安特卫普举行的科技活动并接受路透采访。他呼吁针对晶片制造设备销往中国大陆，制定更为一致的规则。
美国国会4月提出「硬体技术多边协调管制法案」（MATCH法案），要求荷兰和日本等盟友遵守美国出口管制措施，防止大陆获取先进晶片制造设备。这项法案在现行极紫外光（EUV）机对大陆全面禁售的基础上，将浸润式深紫外光（DUV）机等设备也纳入全面限制。
福克说，艾司摩尔目前向大陆出售的DUV设备，本身就是基于2015年的技术，为八代之前的晶片技术；如果进一步收紧限制，只会加速中国自主研发替代设备的步伐。
他比喻说，「如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了，你需要多久才开垦出自己的菜园？这是存亡的问题。」
路透此前报导，这项法案是在美国最大记忆体晶片制造商美光科技推动下提出，针对的对象为大陆长鑫存储、长江存储及中芯国际旗下工厂，以及遍及大陆全境的关键技术。荷兰政府对法案予以反对。
艾司摩尔今年1月预计，今年在大陆市场的销售额占比为20%，较去年的33%明显减少。按大陆海关总署的数据统计，大陆今年首季从荷兰进口的曝光设备年减24.3%。
今年3月大陆全国「两会」召开之际，大陆半导体行业的9名领军人物集体撰文，呼吁在「十五五」（2026年至2030年）规划期间，「举全国之力打造中国版的艾司摩尔」，突破美国的技术封锁。