世界顶尖半导体生产设备制造商艾司摩尔（ASML）执行长福克今天说，预期几个月内可看到使用其新一代微影设备高数值孔径（High NA）极紫外光（EUV）机制造的首批产品问世。
路透社报导，ASML最大客户台积电4月才表示，High NA EUV曝光机太过昂贵。这种机器每台价格最高可达4亿美元（约新台币126亿6000万元）。
不过，福克（Christophe Fouquet）今天在比利时的微电子研究中心（imec）主办的一场会议上说，HighNA EUV曝光机将降低最先进晶片的图案化（patterning）成本，无论是逻辑晶片或记忆晶片。
他并表示：「接下来几个月内，我们将见到首批在High NA系统上曝光（制造）的少数产品，无论是记忆体或逻辑应用。」