星期四, 16 7 月

艾司摩尔三度上修展望 台积法说前释 AI 需求强劲讯息

台积电(2330)今(16)日将举行法说会,重要伙伴全球晶片微影技术龙头艾司摩尔 (ASML)昨日财报抢先报喜,并且第三度上修全年营运展望,强调AI投资带动客户不断加速扩产,带旺半导体市况。

业界认为,艾司摩尔看好AI带动半导体业投资动能,意味整体晶片需求强劲,晶片制造商必须增加添购艾司摩尔的设备来扩产,这也透露台积电接单畅旺,将是这波AI带起的半导体热潮下主要受惠厂商。

艾司摩尔结算,上季营收93亿欧元,年增逾21%;毛利率54%,主要动能来自销售与累积装机管理收入高于预期;净利29亿欧元,年增逾27%。营收、毛利率均优于预期。

艾司摩尔并公布第3季财测,预估销售净额约110亿欧元至120亿欧元间,毛利率预估约55%至57%。

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艾司摩尔执行长福克(Christophe Fouquet)指出,AI相关领域投资与技术持续发展,正带动先进逻辑与储存晶片需求成长,进一步强化半导体产业成长前景。客户因应此趋势,正不断加速产能扩张计划,并转换成对艾司摩尔的承诺,增加未来市场需求的能见度。

艾司摩尔并三度上调2026年展望,最新预估全年总净销售额达430亿欧元至450亿欧元,毛利率介于54%至56%之间。

艾司摩尔最新年度财测较元月提出的第一版营收目标调高15.8%。业界看好,该公司三度调高全年展望,代表AI推动半导体成长趋势无庸置疑。

艾司摩尔指出,今年低数值孔径极紫外光(Low NA EUV)微影设备产能为65台。福克透露,今年上半年订单量仍然非常强劲,基于此成长动能,预计明年将Low NA EUV微影设备产能增加30%,2028年再扩增30%。

艾司摩尔今年浸润式DUV微影系统产能为130台,规划2027年、2028年都要再各增加三成产能,并且持续大幅扩展设备升级产品组合服务。

艾司摩尔并宣布,携手英特尔让High NA EUV技术迈入新里程碑,英特尔晶圆代工已将ASML EXE High NA EUV技术用于量产部分代号为Panther Lake的处理器。

英特尔并将旗下18A制程特定层数于美国奥勒冈州完成High NA EUV制程双重验证,产品良率达到与 NXE平台相当水准,并开始出货给客户。双方将持续深化合作,推进High NA EUV技术导入,并依据客户需求,灵活应用于未来制程节点。

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