星期日, 19 7 月

美拟推新法限对陆晶片设备出口 ASML 恐受影响

大陆观察者网6日引述彭博社报导,美国跨党派国会议员近日提出一项新法案,拟进一步收紧对大陆的半导体制造设备出口限制,并将范围扩及荷兰、日本等盟国企业,包括荷兰半导体设备大厂ASML(艾司摩尔)在内业者,恐受影响。

报导指出,该法案草案已于4月2日提交美国众议院,参议院预计亦将提出对应版本。法案名称为「硬体技术控制多边协调法案」(MATCH Act),主要目的是让美国及盟友在出口管制措施上采取一致标准。

根据内容,未来不仅美国企业,来自盟国的设备供应商也可能面临与美企相同甚至更严格的限制,包括禁止相关企业工程师在大陆特定设施提供设备维修与技术支援。此外,新规范也可能扩及部分美国本土企业,如应用材料(Applied Materials)、科林研发(Lam Research)及科磊(KLA)等。

在技术范围上,法案重点锁定大陆仍高度依赖进口的关键设备,特别是用于晶片制造的浸润式深紫外光(DUV)微影设备。该市场目前由ASML主导,日本厂商尼康(Nikon)亦有参与竞争。

目前,美国与荷兰已限制最先进的极紫外光(EUV)设备出口至大陆,荷兰政府亦对部分DUV设备实施出口许可制度。若新法案通过,可能进一步限制ASML向大陆销售部分既有DUV设备,影响其在当地市场布局。

资料显示,大陆为ASML重要市场之一,2025年占其全球营收约3成。市场预期,在相关限制收紧下,占比可能下滑。

此外,法案亦规划对部分大陆主要晶片制造企业的设备供应施加更严格限制,并可能要求盟国同步采取类似措施,以避免出现管制漏洞。对于相关立法动向,ASML拒绝就此发表评论;荷兰政府则指出,对其他国家国会提出的法案我们「不便评论」。

分析指出,该法案仍处于立法初期阶段,后续推进及具体内容仍存在不确定性,但若落实,可能对全球半导体供应链及企业布局带来影响。

另一方面,大陆外交部此前已表达反对立场称,「中方一贯反对美国泛化国家安全概念,以各种借口胁迫其他国家进行对华科技封锁」,并认为相关措施恐冲击全球产业链与供应链稳定。